ASML的EUV光刻技术仍是中国的最大芯片壁垒，荷兰观察家表示
据荷兰半导体观察人士Marc Hijink最近在一家荷兰刊物中撰文称，中国半导体发展中最具挑战性的瓶颈依然是ASML的极紫外（EUV）光刻设备，目前尚无可行的替代方案。Hijink指出，ASML从理论到商业生产开发EUV技术大约花费了15年，这是光源工程与精密制造的复杂整合，包括日本尼康在内的竞争对手——其投资超过1000亿日元——最终都未能成功。
虽然华为等中国公司正通过开源RISC-V架构在芯片设计上寻求突破，以规避美国对x86和ARM技术的出口限制，但EUV设备领域带来了更为严峻的挑战。全球范围内，ASML在EUV技术中几乎占据绝对主导地位，而中国目前没有商业上可行的国内替代方案。分析强调，在当前出口管制下构建独立的EUV能力将需要进入未知的技术领域。
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