Intel 为 Panther Lake 生产采用 ASML 下一代高数值孔径(High NA)EUV 光刻技术

yangwangxingkong2026-07-18 09:58:22wallstreetcn
据 ASML 称,英特尔于周二(7 月 15 日)开始使用 ASML 下一代高数值孔径(High NA)极紫外(EUV)光刻设备来生产 Panther Lake 笔记本处理器。此举继 2024 年的试验性试产之后,英特尔现已在大规模制造中部署该先进工具,以提升生产效率。
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